Den technologischen Fortschritt von morgen erm?glichen

ZEISS Prozessgas Analysator

Prozesskontrolle für verschiedene Anwendungen in Echtzeit

Das kompakte und hoch sensitive Ionenfallen-Massenspektrometer detektiert selbst kleinste Verunreinigung sowie empfindlichste Prozessparameter in Echtzeit. Es ist ein ideales Ger?t zur Prozesskontrolle, Kontaminationsmessung, Forschung und Entwicklung sowie für die Fertigung.

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ZEISS AIMS? 1x-193i

Pr?ziser, schneller und benutzerfreundlicher

Das AIMS? 1x-193i ist ein einzigartiges Qualifizierungssystem, welches Photomaskenhersteller zum Prüfen von Defekten sowie zur Verifikation von Reparaturen einsetzen. Es kann für alle Maskentypen eingesetzt werden und erm?glicht, die optische Performance von Masken unter Belichtungsbedingungen wie im Scanner zu analysieren.

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ZEISS Semiconductor Manufacturing Technology

Halbleiterfertigungs-Optiken

Teilweise in Deutschland nicht vertrieben

Mit Lithographie-Optiken und weiteren optischen Systemen erm?glicht ZEISS Kunden weltweit die Herstellung extrem leistungsf?higer Mikrochips.

Photomaskenl?sungen


Unsere Photomaskenl?sungen dienen zur Produktion von defektfreien Photomasken für die Chipherstellung.

Prozesskontrolle & Fehleranalyse

Basierend auf seinem breiten Technologie-Portfolio bietet ZEISS für die Halbleiterindustrie einzigartige L?sungen zur Prozesskontrolle und Fehleranalyse. 

Prozessgas-Analyse


Mit dem innovativen Ionenfallen-Massenspektrometer detektieren ZEISS Kunden selbst kleinste Verunreinigungen in Echtzeit.

Produkt-Highlights

* Teilweise in Deutschland nicht vertrieben

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